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ヘルシンキ

ウーシマー

2026-03-07 12:00
AQI（米国）
良
汚染物質|花粉
O3
μg/m³
71.5
PM2.5
μg/m³
3.1
PM10
μg/m³
9.5
NO2
μg/m³
6.9
SO2
μg/m³
0.6
天気
  • ℃
  • ℉
7℃
61%
5 kph
1 of 11
過去のデータ
  • 毎時
  • 毎日
  • AQI（米国）
  • アレルギーリスク
  • O3
  • PM2.5
  • PM10
  • NO2
  • SO2
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データ元
http://www.ilmanlaatu.fi/http://www.polleninfo.orghttps://www.eea.europa.eu

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