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Helsinki Teollisuuskatu

ヘルシンキ, ヘルシンキ

2026-04-21 18:00
AQI（米国）
良
汚染物質
O3
μg/m³
81.1
PM2.5
μg/m³
5.5
PM10
μg/m³
19
NO2
μg/m³
12.8
天気
  • ℃
  • ℉
9℃
44%
8 kph
0 of 11
過去のデータ
  • 毎時
  • 毎日
  • AQI（米国）
  • O3
  • PM2.5
  • PM10
  • NO2
データ元
http://www.ilmanlaatu.fi/

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