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Vartiokylä Huivipolku

ヘルシンキ, ヘルシンキ

2026-07-25 13:00
AQI（米国）
良
汚染物質|花粉
PM2.5
μg/m³
5.1
O3
μg/m³
56.6
PM10
μg/m³
8.8
NO2
μg/m³
3.5
天気
  • ℃
  • ℉
18℃
76%
22 kph
0 of 11
過去のデータ
  • 毎時
  • 毎日
  • AQI（米国）
  • アレルギーリスク
  • PM2.5
  • O3
  • PM10
  • NO2
  • オオヨモギ
  • 草
  • ハンノキ
  • ブタクサ
  • カバノキ
  • オリーブの木
データ元
https://www.eea.europa.eu

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