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Vartiokylä Huivipolku

ヘルシンキ, ヘルシンキ

2026-04-06 18:00
AQI（米国）
良
汚染物質|花粉
O3
μg/m³
49.2
PM2.5
μg/m³
1.9
NO2
μg/m³
8.8
PM10
μg/m³
4.4
天気
  • ℃
  • ℉
3℃
93%
7 kph
0 of 11
過去のデータ
  • 毎時
  • 毎日
  • AQI（米国）
  • アレルギーリスク
  • O3
  • PM2.5
  • NO2
  • PM10
  • ハンノキ
  • カバノキ
  • ブタクサ
  • オオヨモギ
  • オリーブの木
  • 草
データ元
https://www.eea.europa.eu

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